Корпорация Intel достигла важных рубежей в развитии программы EUV-литографии

11.08.2004 |
Корпорация Intel объявила о достижении двух важных рубежей в разработке технологии EUV-литографии, на которой будут основаны микропроцессоры будущего.

Корпорация установила первый в мире коммерческий аппарат EUV-литографии и пилотную линию по нанесению EUV-масок, что знаменует собой переход данной технологии из стадии исследований в стадию разработки и развития.

Литография – это технология печати схем на компьютерных микросхемах. Корпорация Intel планирует начать массовое производство устройств на базе новой технологии в 2009 году.

Помимо установки аппарата MET, корпорация Intel развернула пилотную производственную линию EUV-масок. Она станет основой будущего производства масок, которым корпорация Intel планирует заняться самостоятельно. Пилотная линия интегрирует EUV-модули в используемый в корпорации Intel производственный процесс изготовления масок и включает первые в мире средства создания EUV-масок на промышленном уровне.

Интересные ссылки

Тематики: Оборудование

Ключевые слова: